Ein Plasma-Ätzsystem (Reactive Ion Etching, RIE) für das Center of MicroNanoTechnology

en als auch für Standard-Wafer in verschiedenen Größen ausgelegt sein. Das CMi ist eine nutzerorientierte Einrichtung für die Mikro- und Nanofabrikation, die allen Fakultäten der EPFL zentralen Zugang zu Reinraumkapazitäten bietet und auch der lokalen Industrie offensteht (mit jährlich mehr als 650

aktiven Nutzern). Die Anlage ist für Spitzenforschung im Bereich der Mikro- und Nanofabrikation vorgesehen, insbesondere für die Strukturierung von Metallschichten auf lithografischen Masken/Reticles sowie auf Wafern. Bei der Bewertung wird