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Un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour le Centre de MicroNanoTechnologie
Frist:12 Nov 2026, 23:59 CET
Ausschreibungsinformationen
CH_SIMAPLausanne, Schweiz
- Art
- Contract notice
- Verfahren
- Offenes Verfahren
- Referenznummer
- 16fee67d-11ee-4550-bd8f-a43ef8582e0d
- CPV
- 38000000 Laboratory, optical and precision equipments (excl. glasses)
L’EPFL a l’intention d’acquérir un équipement plasma de gravure ionique réactive de métaux pour son Centre de MicroNanoTechnologie (CMi), afin de traiter aussi bien des photomasques carrés que des wafers standards, et de…
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