Suministro e instalación de un equipo de deposición química de vapor asistida por plasma PECVD (Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition) de capas dieléctricas, destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.
Ausschreibungsinformationen
TED EUMadrid, Spain
- Art
- 29
- Verfahren
- open
- Referenznummer
- 755982-2025
- Geschätzter Wert
- 809,273 EUR
- CPV
- 38000000
Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar y en el pliego de prescripciones técnicas.