- Art
- 25
- Verfahren
- neg-wo-call
- Referenznummer
- 498974-2024
- CPV
- 38000000
Für die zentrale Wissenschaftliche Einrichtung Nanostrukturlabor am Max-Planck-Institut für Festkörperforschung soll für Optische Lithographie ein neues Maskenbelichtungsgerät ('Mask-Aligner') beschafft werden. Dieser mu…
ss die folgenden Eigenschaften aufzuweisen: UV-LEDs als Lichtquelle, wobei zur Belichtung der Wellenlängenbereich (i-, h- und g-Linie) wählbar und frei kombinierbar sein muss. Die Lichtintensität ist konstant zu halten. Diverse Maskengrößen sind verwendbar: 3", 4", 6". Die Belichtung von Subst
raten unterschiedlicher Formate muss möglich sein: von 4mm-auf-4mm Chip bis 6"-Wafer. Es ist das Ausrichten auf Markierungen auf der Substratober- als auch Substratunterseite möglich. Es stehen verschiedene Kontaktmodi zur Verfügung: 'S