Dostawa dwóch identycznych zaawansowanych systemów szlifowania powierzchni zaprojektowanych specjalnie do szlifowania podłoży półprzewodnikowych, takich jak azotek galu (GaN) i węglik krzemu (SiC).

kich jak azotek galu (GaN) i węglik krzemu (SiC).” Zakup dwóch identycznych szlifierek: Wymagania dotyczące specyfikacji szlifierek • Szlifierka zaprojektowana specjalnie do szlifowania wafli półprzewodnikowych, takich jak azotek galu (GaN) i węglik krzemu (SiC). • Szlifierka jednowrzecionowa do obr

óbki wafli pojedynczo • Możliwość obróbki wafli o średnicy od 25 mm do 150 mm • Możliwość użycia tarcz szlifierskich od dowolnego dostawcy WYMIARY SZLIFIERKI: • Powierzchnia podstawy: mniej niż: 1,5 m (szer.) x 2,2 m (gł.) x 2,5 m (wys.) •