Elektronenstrahlverdampfer

lexibilität hinsichtlich der verwendbaren Materialien, Materialqualität und Präzision ermöglicht. Das System soll in erster Linie zur Herstellung photonischer und plasmonischer Nanostrukturen wie z.B. Metamaterialien und -oberflächen, Nanoantennen und photonischer Kristalle eingesetzt werden. Dies s

oll einerseits durch Elektronenstrahlverdampfung in Kombination mit Elektronenstrahl-lithographie und einem Lift-Off Prozess und andererseits durch die Herstellung von funktionellen Substraten und Mehrschichtsystemen für optische Nano- und