Adquisición de un multisistema para depósito de capas dieléctricas (óxidos y nitruros) y oxidación (silicio)

tivos electrónicos y fotónicos en el proceso de fabricación de circuitos integrados. Este equipo mejora significativamente nuestras capacidades ya que dotaría al centro con una calidad en los procesos y materiales no disponibles actualmente en el centro. Este sistema también permitiría procesar desd

e muestras pequeñas hasta obleas de 8 pulgadas. Las aplicaciones y los procesos en los que este equipo se centrarán abarcan materiales y técnicas como PECVD SixNy/SiON/SiO2, Oxidación húmeda y seca de silicio, LPCVD Nitruro de silicio esteq