Equipo combinado ICP-DRIE y espectrofotómetro para fotoluminiscencia “in situ”
Tender information
TED EUValencia, Spain
- Type
- 29
- Procedure
- open
- Ref. number
- 147719-2026
- Estimated value
- 374,500 EUR
- CPV
- 31712100
La técnica de DRIE (Deep Reactive Ion Etching) consiste en el grabado profundo y altamente preciso de materiales semiconductores, como el silicio, mediante un proceso de plasma reactivo. Este método permite la creación d…