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Beschaffung einer chemisch-mechansichen Polieranlage

Tender information

TED EU

Garching bei München, Germany

Type
29
Procedure
neg-wo-call
Ref. number
79325-2024
CPV
31720000

Die Anlage soll geeignet sein, um Wafer mit verschiedenen topographischen Schichten, wie z.B. Silizium, Siliziumoxid, Wolfram, etc. zu planarisieren und zu polieren. Es muss sich um eine vollautomatische Anlage mit volls

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