Beschaffung einer chemisch-mechansichen Polieranlage
Tender information
TED EUGarching bei München, Germany
- Type
- 29
- Procedure
- neg-wo-call
- Ref. number
- 79325-2024
- CPV
- 31720000
Die Anlage soll geeignet sein, um Wafer mit verschiedenen topographischen Schichten, wie z.B. Silizium, Siliziumoxid, Wolfram, etc. zu planarisieren und zu polieren. Es muss sich um eine vollautomatische Anlage mit volls…