Fourniture d'une piste de lithographie 248 nm

s particulièrement les niveaux implant et BEOL. Cet équipement est destiné à étaler, développer et cuire des résines photosensibles et des couches associées automatiquement. Il sera interfacé à un scanner 248 nm et devra intégrer les modules nécessaires pour les procédés de lithographie optique, et

plus particulièrement l’usage d’un scanner KrF, développés par le CEA-Leti. Le marché envisagé comprend les options suivantes : - Options avec chiffrage obligatoire : o OPT1 : Logiciel pour l’écriture des recettes hors-ligne (§3.3.1) - Opti