Lotto 1 - Sistema di Plasma Etching per la rimozione del silicio - Deep Reactive Ion Etching (DRIE)
Tender information
TED EUTRENTO (TN), Italy
- Type
- 29
- Procedure
- open
- Ref. number
- 236895-2025
- Estimated value
- 4,430,000 EUR
- CPV
- 38430000
GARA EUROPEA A PROCEDURA APERTA PER LA FORNITURA DI ATTREZZATURE SCIENTIFICHE PER L' IMPLEMENTAZIONE E L' INTEGRAZIONE DELL' INFRASTRUTTURA DEL CENTRO SENSORS & DEVICES