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Beschaffung einer CMP Anlage

Tender information

TED EU

München, Germany

Type
29
Procedure
open
Ref. number
33197-2024
CPV
31720000

Beschaffung einer chemisch-mechanischen-Polieranlage für Wafer. Die Anlage soll geeignet sein, um Wafer mit verschiedenen topographischen Schichten, wie z.B. Silizium, Siliziumoxid, Wolfram, etc. zu planarisieren und zu

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