Beschaffung einer CMP Anlage
Tender information
TED EUMünchen, Germany
- Type
- 29
- Procedure
- open
- Ref. number
- 33197-2024
- CPV
- 31720000
Beschaffung einer chemisch-mechanischen-Polieranlage für Wafer. Die Anlage soll geeignet sein, um Wafer mit verschiedenen topographischen Schichten, wie z.B. Silizium, Siliziumoxid, Wolfram, etc. zu planarisieren und zu …