Adquisición de un equipo de implantación de iones por inmersión en plasma (PIII)

no dispone de esta técnica ni de ninguna similar para realizar “dopajes” de los componentes que fabrica. Se trataría de implementar una nueva técnica permitiendo mejoras en la calidad y las características de los componentes fotónicos fabricados. El elemento principal de un componente fotónico es la

guía de onda que se suele realizar sobre silicio (o nitruro de silicio) y esta técnica, al implantar iones de distintos materiales dentro de esas guías, permitiría modificar el índice de refracción del Silicio y mejorar sus propiedades. Co