Beschaffung eines Sputter-Systems mit Co-Sputter Abscheidetechnologie für ein Materialentwicklungslabor

Ausgeschrieben wird eine Sputter-Beschichtungsanlage mit einer Vakuumkammer mit mindestens 3 DC-Magnetron-Quellen. Das System muss modular erweiterbar sein und Co-Sputtern von 3 oder mehr Targets ermöglichen.