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Direktschreiblithographie-System

Tender information

TED EU

Köln, Germany

Type
29
Procedure
open
Ref. number
755844-2024
CPV
38000000

Eine Direktschreiblithographie wird für die Herstellung von Halbleiterbauelementen im Rahmen der Forschung und Entwicklung benötigt. Der Betrieb der Direktschreiblithographie muss in einem Reinraum (ISO6) möglich sein un

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