Suministro e instalación de un sistema de grabado por haz amplio de iones (Broad Ion Beam Etching System) destinado al Instituto de Microelectrónica de Barcelona – Centro Nacional de Microelectrónica de la Agencia Estatal Consejo Superior de Investigaciones Científicas.
Tender information
TED EUMadrid, Spain
- Type
- 29
- Procedure
- open
- Ref. number
- 337724-2025
- Estimated value
- 679,990 EUR
- CPV
- 38341000
Según se indica en la memoria justificativa de las especificaciones técnicas, en la memoria justificativa de la necesidad de contratar, y en el pliego de prescripciones técnicas.