Reactive ion etcher
Tender information
TED EUHamburg, Germany
- Type
- 16
- Procedure
- restricted
- Ref. number
- 204085-2026
- CPV
- 31712000
Herstellung, Vertrieb und Service von Plasmaätzanlagen (RIE/ICP-RIE) für die Mikro- und Nanofabrikation. Genaueres entnehmen Sie bitte aus dem Lastenheft.