Sistema di litografia a fascio di elettroni per la fabbricazione di maschere fotolitografiche e la scrittura diretta di pattern submicromentrici (e-Beam Lithography)

retta di pattern submicromentrici (e-Beam Lithography)

Gara europea a procedura aperta ai sensi dell'art. 71 D.lgs. 36/2023 per l'affidamento della fornitura di un Sistema di litografia a fascio di elettroni per la fabbricazione di maschere fotolitografiche e la scrittura di