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Beschaffung einer chemisch-mechanischen Polieranlage

Tender information

DE_BKMS

Garching bei München, Germany

Type
award
Procedure
Negotiated without prior call for competition
Ref. number
2a71d94c-07d3-4e65-b83f-108f5cf3890b
CPV
31720000

Die Anlage soll geeignet sein, um Wafer mit verschiedenen topographischen Schichten, wie z.B. Silizium, Siliziumoxid, Wolfram, etc. zu planarisieren und zu polieren. Es muss sich um eine vollautomatische Anlage mit volls

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