Plasmaanlagen
Tender information
DE_BKMSSiegen, Germany
- Type
- goods (award)
- Procedure
- Open
- Ref. number
- 1d1ecea0-df7c-4d6b-b92f-0342e514775a
- Estimated value
- 1 EUR
- CPV
- 42990000
Plasmaanlagen für das reaktive Ionenätzen (reactive ion etching, RIE) und Plasmareinigung zur Prozessierung von bis zu 6 Zoll großen Substraten