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Beschaffung einer CMP Anlage

Deadline:12 Dec 2023, 12:00 CET

Tender information

DE_BKMS

München, Germany

Type
goods (tender)
Procedure
Open
Ref. number
bf455695-9f18-47d2-a6d5-82fa84613e04
CPV
31720000

Beschaffung einer chemisch-mechanischen-Polieranlage für Wafer. Die Anlage soll geeignet sein, um Wafer mit verschiedenen topographischen Schichten, wie z.B. Silizium, Siliziumoxid, Wolfram, etc. zu planarisieren und zu

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