Beschaffung einer hybriden Ultrahochvakuum-Beschichtungsanlage für Sputtern und Bedampfen

rmisches Verdampfen) von unterschiedlichen Reinstmetallen, Legierungen, Halbleitern und Isolatoren in Ultrahochvakuum (Restgas-druck p < 5 x 10-9 mbar) für die Erforschung zweidimensionaler Materialien in quantenphysikalischen Experimenten.

Das hier beschriebene Vergabeverfahren betrifft die Beschaffung einer kombinierten Anlage zum Abscheiden von dünnen Schichten mittels Magnetron-Sputtern (DC und RF) und/oder Aufdampfen (Elektronenstrahlverdampfen und the