- Procedure
- Negotiated without prior call for competition
- Ref. number
- bc297156-538c-4e7d-831f-1dae37c2988d
- CPV
- 38341100
Benötigt wird ein dediziertes Hochleistungs-Elektronenstrahllithografie-System mit passender Ausstattung, um die technologischen Anforderungen, welche aus der Vielzahl an derzeit laufenden und geplanten sowie zukünftigen…
Projekten resultieren, erfüllen zu können. Folgende Anforderungen ergeben sich an das Gerät:
1. System zur Strukturierung von Elektronenstrahl-empfindlichen Lackschichten.
2. Erzeugung einzelner ‚Features‘ mittels Elektronenstrahllithographie, die Linienbreiten und Abmessungen im Bereich kleiner 8
nm haben (State of the Art).
3. Die Beschleunigungsspannung muss einstellbar bis zu 50 kV und muss ohne Einschränkungen unmittelbar umschaltbar sein auf einen zweiten Arbeitspunkt z.B. 10 kV, um z.B. bestimmte Profile in den belichteten St