Elektronenstrahl-Lithographiesystem
Deadline:10 Jan 2024, 12:00 CET
Tender information
DE_BKMSGarching, Germany
- Type
- tender
- Procedure
- Open
- Ref. number
- 3b80da98-427b-463e-8634-51f4709b3a75
- CPV
- 38000000
Elektronenstrahl-Lithographieanlage für die Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen für die Forschung und Prototypenentwicklung mit hoher Auflösung. Anwendungsfelder reichen von der Herstellung von photonischen Schaltk…