- Type
- goods (award)
- Procedure
- Open
- Ref. number
- 94e2e567-7029-4a41-8bd9-6f600dade263
- CPV
- 38000000
Für die Prozessierung von Halbleiterlaserdioden im Rahmen der Forschung und Entwicklung muss ein erprobtes System für das Elektronenstrahlverdampfen (ESV) beschafft werden. Hierbei muss das ESV-System in der Lage sein dü…
nne Metallschichten für Materialabhebungsprozesse (Lift-Off) abzuscheiden. Das ESV-System muss in der Lage sein, entsprechenden Schichten im einer Auf-dampfrate im Bereich von Angström pro Sekunde abzuscheiden. Ebenso müssen die entspre-chenden Schichten sehr homogen mit einer hohen Reproduzierbarke
it abgeschieden werden kön-nen. Das ESV-System muss in der Lage sein, Reinigungs- und Anätzprozesse im Nanometer-Bereich durchführen zu können.
Weitergehende Informationen sind der beigefügten Leistungsbeschreibung (Vertragsunterlagen) zu