maskenlose Lithographieplattform zur Erzeugung hochpräziser Mikro- und Nanostrukturen inklusive einer Software zur Gerätesteuerung und Mustererstellung

und zur Mustererstellung, die mindestens die folgen-den technischen Leistungsparameter erfüllen muss. Das Nettokostenbudget von 237.000,00 US$ darf nicht überschritten werden, bei Überschrei-tung behält sich die Vergabestelle den Angebotsausschluss vor. Liegen alle Angebote über diesem Betrag ist di

e Vergabestelle berechtigt die Ausschreibung aufzuheben. The Friedrich Schiller University intends to purchase one (1) lithography platform for the mask-free generation of high-precision micro- and nanostructures, including the software for