- Procedure
- Negotiated without prior call for competition
- Ref. number
- 8e91efef-7831-4303-8a4a-888cd4376f76
- CPV
- 38000000
Für die zentrale Wissenschaftliche Einrichtung Nanostrukturlabor am
Max-Planck-Institut für Festkörperforschung soll für Optische
Lithographie ein neues Maskenbelichtungsgerät ('Mask-Aligner')
beschafft werden.
Dieser m…
uss die folgenden Eigenschaften aufzuweisen:
UV-LEDs als Lichtquelle, wobei zur Belichtung der Wellenlängenbereich (i-, h- und g-Linie) wählbar und frei kombinierbar sein muss.
Die Lichtintensität ist konstant zu halten.
Diverse Maskengrößen sind verwendbar: 3", 4", 6".
Die Belichtung von Sub
straten unterschiedlicher Formate muss möglich sein: von 4mm-auf-4mm Chip bis 6"-Wafer.
Es ist das Ausrichten auf Markierungen auf der Substratober- als auch Substratunterseite möglich.
Es stehen verschiedene Kontaktmodi zur Verfügung: