2 sets de 8 fours comprenant 4 tubes pour des procédés de dépôt chimique à basse pression vapeur (LPCVD) et 4 tubes atmosphériques pour le CMi

ion sera basée sur la performance des procédés, sur la robustesse de l’équipement, la facilité d’utilisation/maintenance. Les performances seront évaluées sur l’uniformité de déposition/croissance, la répétabilité et la durée des procédés. Les exigences générales sont : · (1 Tube) Déposition

par procédé LPCVD de polysilicium (Poly-Si), silicium amorphes (aSi), polysilicium dopé N (N-Si) et polysilicium dopé P (P-Si) de haute qualité et densité, avec de faibles teneurs en impuretés et hydrogène. · (1 Tube) Déposition par