UHV cluster for Pulsed Laser Deposition and Sputtering of epitaxial quantum materials (PLD-SP-CL)

d-Substraten mit einer Fläche von bis zu 10 x 10 mm² ermöglichen. Die PLD- und Sputterkammern müssen Basisdrücke < 10⁻⁷ mbar aufweisen und über eine Schleusenkammer für einen schnellen Probenaustausch zugänglich sein. Die PLD- und Sputterkammern müssen für den Probentransfer im Vakuum miteinander ve

rbunden sein. Die PLD muss über in-situ RHEED zur Wachstumsüberwachung verfügen und Substrat-Temperaturen von mindestens 950°C ermöglichen. Die Sputteranlage ermöglicht das DC-Magnetron-Sputtern bei einer Substrattemperatur von bis zu 700°C