Diamond layer growth technology from gas vapor in microwave plasma - REISSUE

ích tlaků od 5 až 50 Pa a umožňující depozici na trojrozměrné substráty o výšce 2 cm a minimální ploše 10 cm.

Předmětem veřejné zakázky je dodávka pulzního mikrovlnného depozičního systému (2,45 GHz) pracujícího s vysokým výkonem (CW ≥2 kW, pulzní režim ≥4 kW) umožňujícího inicializaci plazmatu o vysoké hustotě v rozsahu provozn