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CMP Anlage

Deadline:22 May 2026, 11:00 CEST

Tender information

DE_BKMS

Siegen, Germany

Type
goods (tender)
Procedure
Open
Ref. number
ce47bcbe-9d76-448a-850a-52091c5da79c
CPV
42990000

Anlage zum Planarisieren und Glätten von Oberflächen mittels chemisch-mechanischem Polieren (CMP, chemical mechanical polishing) zur Prozessierung von bis zu 6 Zoll großen Substraten

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